1)72.山巍[04]_黑科技进修手册
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  研究生的贴在电子发烧友论坛里火了,连翻十几页,盖了一栋千层大楼,楼里都是来求证的半导体圈内人。

  【光源系统设备专利注册……吹吧,吹到牛皮破了说不定国外人真相信了。】

  【专利都申请,不可能有假吧?】

  【建议你查一查汉芯事件,当年凭一块美国二手芯片在国内注册专利,狂揽十几亿。学术圈造假比比皆是,诺贝尔奖都能造假,何况一个专利?】

  【要真是光源系统设备研发出来,堪比euv的国产光刻机能造出来了吧?我国多久能追上asml?】

  【傻吗你?人家asml四五十年前开始研究光刻机,集齐全球千多名顶级工程师,镜头用德国蔡司,光源用美国cymer,垄断双工作台技术……我国追上现在的asml至少需要二十年!】

  【我国虽然不至c举国之力研发光刻机,但这方面n布局二十多年,不至casml比到尘埃去吧?】

  【申市微电子科技目前只能造出90nm工艺制程的光刻机,还不确定是否能量产,你说差距多大?】

  【怎么歪楼了?不是涛光源系统设备是否真的研发出来吗?】

  【假如!假如光源系统设备研发出来,我国多久能拥有一台国产euv?】

  【保守估计,明年下个季度。但n有可能,今年年底可实现国产euv验收。】

  【!!!不是还有其他子系统设备没研发出来吗?】

  【只要最关键的光源系统设备和双工作台系统研发出来,其他问题解决只需要时间和人手。】

  【v来还是没人知道光源系统设备研发出来到底味着什么!】

  【所你能说明吗?】

  【春城和申市大光机所接下光学子系统研发(是高精度镜头),水木大学研发团队负责双工作台系统(工程已验收),南大光电是光刻胶,蓝河科技接下光源系统科学专项,申市微电子科技负责最终组装……蓝河科技已跟申市微电子科技达成合作!】

  【说得再简单点,研发出光源系统设备味着极紫外光刻机最迟明年一定能验收!】

  【我只关心一点,美帝芯片制裁是不是再n不能威胁到我国?】

  【说再多的光刻机,我国半导体产业不如美帝发达完善。】

  【emmm……美狗来了?国外不够你舔,国内发疯?】

  【楼上上蠢不自知,照我国的速度,一旦有了国产euv,三年内必定建成比美国还完善的半导体产业链!】

  【说的没错!我国ic设计其实赶得上美国水平,要还是光刻机限制了我们的发展。】

  【666。】

  【话说,你们v专利申请的发明人那一行了吗?】

  【……没注到,我回去v——】

  【v完回来

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