欧美、日韩等国的半导体龙头企业内部发生，他们也正在焦急等待海外华国一个规模不大却令人不敢小觑的科技公司的最新消息。
不过他们和国内企业家的愿望不同，他们在内心里不断发出恶狠狠的诅咒，尤其欧美国家诅咒最美，但愿蓝河科技的实验结果惨遭滑铁卢！
最好一直滑铁卢，永远不会成功！
很可惜他们注定会失望。
蓝河科技内，随着盛明安手势的指挥，矗立众人跟前的那台光刻机样机在漫长的一小时内完成了它的第一次验收。
样机看不见的内部，无数比头发丝还细的激光穿过几十个精密镜头后，准确击中锡液滴靶，四处分散的等离子体被收集，将掩膜版上的图形信息透过缩图透镜完完整整复刻到下面的晶圆，曝光晶圆。
一个小时后，各小组汇报结果。
“完成光刻试验任务，没有异常。”
“一小时内成功曝光160片晶圆，比目前已知的nex3400b机型每小时曝光125片晶圆吞吐量多达35片！套刻误差不超过2nm！”
“数据已全部记录，根据数据计算显示，可以在原样机的基础上将效率提高至少18%，套刻误差提高到2nm以下。”
“一片晶圆可得芯片数量等于晶圆面积/芯片面积-晶圆直径/芯片对角线长，照该公式计算我们目前使用的12英寸晶圆一片可得到的芯片数量，不过最后可用的芯片数目得等到封测完毕才能知道最终的晶圆良率。”
经过光刻机曝光后的一大块晶圆还需要封装成一个完整的颗粒，再进行切割，最后测试。通过测试选出性能稳定、完好、容量足的芯片，剩下不合格的部分就会被当成废品处理。
稳定的芯片和不合格的芯片对比得出的数据称为晶圆良率，总良率超过90%才算可盈利的商品。
而晶圆制作过程历经三百多个步骤，其中随便哪个步骤出现差错就能导致整片晶圆损毁或拉低良率。
一粒肉眼看不见的灰尘掉进正在制作中的晶圆，它就会立即报废，所以光刻过程必须保证在恒温、无尘车间内工作。
“其余数据稳定！稳定！稳定！”
“uv样机，实验验收完毕！”
“验收通过！”
……
一片无声沉默中，盛明安率先开口：“可以向上报告，准备新机研制和新项目研发。”
下一刻，实验室内猛然爆发欢呼，还有人喜极而泣，他们埋头苦干了四五年！
有人在这行甚至干了十年以上，还以为有生之年都不能看到国产euv的诞生，怎么能想得到不仅看到了、还是自己参与的项目！
所以怎么能不喜极而泣？怎能不相拥欢呼？
林成建眼睛有点湿了，他忽然很想
请收藏：https://m.bitxt.cc
（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）